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基于LPC2119的微弧氧化电源控制系统的研制-lol下注官网

本文摘要:1.张微弧水解(MAO)是在金属表面原地生长的陶瓷层的表面处理技术,是利用等离子化学和电化学原理在材料表面生成微区电弧静电,化学、电化学和等离子体相结合,使陶瓷层原地生长的新技术。

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1.张微弧水解(MAO)是在金属表面原地生长的陶瓷层的表面处理技术,是利用等离子化学和电化学原理在材料表面生成微区电弧静电,化学、电化学和等离子体相结合,使陶瓷层原地生长的新技术。微弧水解电源是保证微弧水解过程的关键因素之一,主要功能是在微弧水解和生产过程中具有脉冲电场和工艺参数的自动检测和控制。本文开发的微弧水解电源采用功率模块转换器技术,构建微弧水解工艺所需的高电压、高电流、宽带带和高质量,并用胜利脉冲输入。

利用基于ARM的自动控制系统,自动监控电压、电流、脉冲频率、频率等电气参数。AdvancedRISCMachines(ARM)处理器是32位嵌入式微处理器,与工业控制计算机相比,优点是体积小、重量轻、成本低、可靠性低。与参考文献2[2]中的16位微控制器相比,ARM嵌入式微处理器具有速度、功能、功耗、可扩展性等优点。

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本文开发的微弧水解电源控制系统中使用的CPU是基于ARM7的LPC2119处理器,是反对动态建模和嵌入式跟踪的16/32位CPU,零备用256K芯片闪存和16K SRAM需要内存扩展,并具有内部UART、硬件I2C和SPI总线。2.控制系统的解释微弧水解电源的主电路由变压器输入、晶闸管整流器、电感电容滤波器、IGBT斩波变换器4个部分组成[3]。本文设计的微弧水解电源控制系统的主要任务是,根据工艺拒绝,驱动微弧水解控制系统的晶闸管、IGBT等模块,完成工艺拒绝设置、工艺编号存储和报警信号输入功能。

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因此,该控制系统分为比系统部分更大的部分,如CPU操作电源、外部晶振和JATAG调试端口生成。A/D和D/A转换部分:收集电压和电流值,并将设置值发送到晶闸管模块。

I/o部分:生成一些输出和输入信号。CAN通信部分:传输和接管部分设置参数。E2PROM部分:流程编号和动态数据存储已完成。3.硬件系统的设计3.1比系统部分大,如图1右图所示,较大的系统由闭路电路、晶体电路、电源电路、LPC2119组成。

肺面芯片使用MAX809监测芯片,可以输入宽度高达240毫秒的低水平肺面脉冲,不足以保证系统、动态报废。外部决定震源为11.0592MHZ,大大提高了内部倍频中仅次于60MHZ的CPU速度。电源电路部分主要提供LPC2119所需的两种电压。

一个是为外部端口供电的3.3伏特,另一个是为ARM核心供电的1.8伏特。LPC2119具有零待机的256K片内闪存和16K SRAM,具有内存扩展和监视程序功能,不仅可以节约系统资源,还可以提高可靠性。3.。

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